在气氛管式炉的使用过程中，温度有时候会出现偏差，这个时候要涉及到的问题就是要如何去校准了。

1200℃管式炉低温单温区系列管式炉系周期作业，供企业、院校、研究机构等单位选用。$n设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。

高温三温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。

低温单温区系列管式炉系周期作业，供企业、院校、研究机构等单位选用。$n设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。

管式气氛炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，分为上下两个半圆，需要急速冷却或换管子时，可以打开炉膛，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。

真空管式炉是供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用仪器。